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- XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀
XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了X射線毛細導管技術,利用該技術,即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強度。X射線毛細導管將X射線源的大部分射線收集,并將其聚焦成直徑35微米的一個X射線點。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685,一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- ChromaCL2第二代實時彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)
ChromaCL2第二代實時彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng),是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學采集和色散能力,采用陣列光電倍增管得到高增益光探測能力。通過DigitalMicrograph軟件實時地將光子脈沖信號混合成實時彩色陰極發(fā)光圖像。
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- Gatan原位加熱臺Murano 525
Gatan原位加熱臺Murano 525,精悍緊湊,能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標準樣品臺接口,它包含一個絕熱接口,適用于二次電子像、電子背散射衍射(EBSD)與聚焦離子束(FIB)加工。能夠對大至9mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進行快速加熱。
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- MICROTEST 2000E系列原位動態(tài)拉伸試驗臺
MICROTEST 2000E系列原位動態(tài)拉伸試驗臺,可以對金屬樣品施加高達2000N的拉力,用戶EBSD分析,或者對一些其他材料進行常規(guī)的應力-應變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜,為EBSD分析提供了的設置。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- MICROTEST系列原位動態(tài)拉伸試驗臺
MICROTEST系列原位動態(tài)拉伸試驗臺,金屬及鍍層:用于研究晶粒變化、鍍層結合情況、高溫形變及松弛機理、晶粒旋轉及織構變化。復合材料:用于研究材料韌性及強度;纖維:研究材料強度
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